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等離子增強型原子層沉積設(shè)備(ALD)-TFS200
BeneqTFS200專為學(xué)術(shù)和企業(yè)研發(fā)而設(shè)計,是一款用途廣泛的原子層沉
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派瑞林真空鍍膜機Parylene鍍膜系統(tǒng)專為實驗室應(yīng)用優(yōu)化設(shè)計,配備內(nèi)
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AT810經(jīng)濟性原子層沉積設(shè)備是小占地面積臺式系統(tǒng)。采用半導(dǎo)體級金
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AT610經(jīng)濟性原子層沉積設(shè)備是小占地面積臺式系統(tǒng)。采用半導(dǎo)體級金
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卷對卷PECVD石墨烯制備設(shè)備主要應(yīng)用于計算機和智能手機屏幕,超輕
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AT650/850T臺式熱原子層沉積設(shè)備,具備現(xiàn)場升級為等離子體模式的能
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AT650/850P臺式等離子原子層沉積設(shè)備,其以熱系統(tǒng),配備新高級空心
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AT410經(jīng)濟型原子層沉積設(shè)備具備諸多優(yōu)勢:為占地小的桌面系統(tǒng),尺
公眾號:chem17
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